二手原子吸收光譜干擾因素
發(fā)布時(shí)間:2021-05-17 點(diǎn)擊次數:743
原子吸收是指呈氣態(tài)的原子對由同類(lèi)原子輻射出的特征譜線(xiàn)所具有的吸收現象
二手原子吸收光譜儀可測定多種元素,設備具有靈敏、準確、簡(jiǎn)便等特點(diǎn),現已廣泛用于冶金、地質(zhì)、采礦、石油、輕工、農業(yè)、醫藥、衛生、食品及環(huán)境監測等方面的常量及微痕量元素分析。
二手原子吸收光譜儀光譜干擾包括譜線(xiàn)重疊、光譜通帶內存在非吸收線(xiàn)、原子化池內的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當采用銳線(xiàn)光源和交流調制技術(shù)時(shí),前三種因素一般可以不予考慮,主要考慮分子吸收和光散射的影響,它們是形成光譜背景的主要因素。
分子吸收和光散射的影響:分子吸收干擾是指在原子化過(guò)程中生成的氣體分子、氧化物及鹽類(lèi)分子對輻射吸收而引起的干擾。光散射是指在原子化過(guò)程中產(chǎn)生的固體微粒對光產(chǎn)生散射,使被散射的光偏離光路。
使用中導致吸光度值偏高原因:光譜背景除了波長(cháng)特征之外,還有時(shí)間、空間分布特征。分子吸收通常先于原子吸收信號之前產(chǎn)生,當有快速響應電路和記錄裝置時(shí),可以從時(shí)間上分辨分子吸收和原子吸收信號。樣品蒸氣在石墨爐內分布的不均勻性,導致了背景吸收空間分布的不均勻性。提高溫度使單位時(shí)間內蒸發(fā)出的背景物的濃度增加,同時(shí)也使分子解離增加。這兩個(gè)因素共同制約著(zhù)背景吸收。在恒溫爐中,提高溫度和升溫速率,使分子吸收明顯下降。
二手原子吸收光譜儀主要特點(diǎn):
安全保障:可靠的安全保護系統,各方位的保護操作人員的安全。
配置靈活:火焰石墨爐一體化堆棧設計,既節省空間又方便操作。
光路設計:一體化懸浮式避震光學(xué)平臺提高抗震能力,避免溫度變化對光學(xué)系統影響,光信號穩定。
